ナクソーの真空コーティングプロセス - Naxau AM
産業用アップグレード設備第一号
産業高度化における知的リーダーシップ
PシリーズDLC真空コーティング機
製品とプロジェクト
NanoShield Pシリーズ PVD真空蒸着システムは、CVC（連続可変カソード）とUFC（超微細カソード）アークカソードのキーテクノロジーを備えたNanoShieldのSPARKプラットフォーム上に設計されています。
高い柔軟性と業界屈指の信頼性を誇る生産出力。1台の装置で複数のプラズマ技術を組み合わせることができる。
- APCアーク技術に基づく
- SETエッチング技術
- 多層ナノコンポジット構造コーティングのめっき速度の向上
PスタンダードシリーズDLC真空コーティング装置
| P850 | P1200 | P1600 | |
| 有効プラズマサイズ[mm］ | D680x850 | D680x1200 | D800x1600 |
| 耐荷重 [kg］ | 500 | 800 | 1200 |
| PVD技術 | CFS ® 、 PECVD | CFS ® 、 PECVD | CFS ® 、 PECVD |
| エッチング技術 | セット® | セット® | セット® |
| カソード数 | 4 | 4 | 6 |
| コーティング時間 [h］ | 10-12h | 10-12h | 10-12h |
| コーティング硬度［hv］ | 1200-2500調整可能 | 1200-2500調整可能 | 1200-2500調整可能 |
| 粗さ Ra[um］ | <0.05 | <0.05 | <0.05 |
| スクラッチボンド[N］ | >30, >20 | >30, >20 | >30, >20 |
| コーティングタイプ | Cr+W-C:H+a-C:H、Cr+WC-C:H、GLC、Al-Sn-Cu、MoS2など。 | Cr+W-C:H+a-C:H、Cr+WC-C:H、GLC、Al-Sn-Cu、MoS2 | Cr+W-C:H+a-C:H、Cr+WC-C:H、GLC、Al-Sn-Cu、MoS2 |
| 床面積 D*W*H (mm) | 4600x2300x2000 | 4600x2300x2300 | 4600x2300x2500 |
SETプラズマ強化技術の構成により、C2H2、CH4などの炭素源ガスの解離が容易になり、低摩擦係数、高硬度、低a-C:H、a-C:Si DLCコーティングおよびWCCコーティングの調製が容易になる。
特性
- 窒化物および炭化物膜作製用4マグネトロンスパッタリングカソード
- 高密度、低エネルギーのボンバードメントイオンを蒸着コーティングに使用し、良好なコーティング密度、低柱状結晶構造、低内部応力を実現。
- より速い成膜速度を持つ炭素膜のためのイオンビーム増強PECVD技術
- 垂直ローディング、より便利な製品ローディング
- 高性能UBMスパッタリングソース
- フィラメント・アルゴン・イオン・エッチング・ソース
- ターボ分子ポンプ*2
ハードウェア
- ドイツPCインテリジェントシステムズ
- タッチスクリーン操作
- プロセスパラメータとフローのデータロギングとリアルタイム表示
- 自動プロセス制御
- 遠隔診断とメンテナンス
- デジタル管理システムへのアクセス
高度にカスタマイズ可能なDLCメンブレンシステム - 調整可能なパラメータ
自然界で最も硬いのはダイヤモンド（sp3結合）で、グラファイト（sp2結合）は最も柔らかい物質の一つである。DLCは、sp3結合とsp2結合が混在したダイヤモンドのような非晶質炭素基材である。SP3結合が多いほどDLCは硬くなり、その反対は柔らかくなる。DLCコーティングは通常、高硬度、自己潤滑性、耐食性、絶縁性、光吸収性などの作業条件に使用される。より多様な機能要求を達成するために、Si、F、B、W、Taなどの他の元素をドーピングすることで、超潤滑、耐高温性、付着防止、応力緩和など様々な目的を達成することができる。
Pシリーズ スパッタコーターアプリケーション・ソリューション
射出成形スクリュー - 射出成形金型コーティング- コーティング・プログラム窒化クロム｜窒化チタンミラー｜DLC｜アルミチタン
燃料電池バイポーラ・プレート用非貴金属コーティング- 産業用途水素エネルギー｜水素貯蔵｜バイポーラプレート｜貴金属代替
DLCダイヤモンド・ライク・コーティング- コーティング・プログラムDLC｜Ta-C超硬｜WcC｜超潤滑｜耐摩耗装飾めっき
接着性を飛躍的に向上させるデュアルエッチング技術::
20年以上にわたる継続的な運用と改良に基づき、ナクソーはプラズマエッチング技術SETとCETを開発しました。コーティングを成功させるためには、コーティング前にツール表面を適切にエッチングし、クリーンで活性化された界面を得ることが重要です。エッチングは、金属酸化物、水蒸気、微小油、汗くずなどの表面汚染物質を除去する必要があります。また、エッチングは表面を再活性化し、分子鎖を開いてコーティングプロセス中にイオン結合を誘発します。
ターンキープロジェクト
ターンキープロジェクト
真空成膜装置、成膜プロセス、周辺生産設備の提案、人材育成、工場計画など、成膜プラント量産ソリューションをワンストップで提供。
NanoShieldの真空コーティング装置は、業界で最も信頼性の高い生産出力の一つです。複数のプラズマ蒸着技術を1台の装置で複合化することができます。
