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Model Q PVD电镀替代量产设备 ​

版本 v1.1 · 数据日期 2026-10-30 · 来源：naxauie.com

一句话：Model Q 专为 PVD 替代传统电镀铬、铜、锌开发，依托纳狮 JVAD 专利技术实现 1µm/min 高效快速镀膜，耐磨性比电镀提升 30%，无六价铬、无镍、无溶剂。

关键参数 ​

参数数值说明
沉积速率1 µm/minJVAD 专利快速镀膜
耐磨性提升30%相比传统电镀
铝合金 DX-2 耐磨性提升 16 倍相比阳极氧化
DX-2 盐雾测试提升 2 倍相比阳极氧化
阴极HSS 快速镀膜阴极纳狮自研
等离子技术H2 等离子增强高离化率、高结合力
环保无六价铬、无镍、无溶剂从源头解决电镀污染

核心优势 ​

  • 涂层致密耐蚀：耐腐蚀性与电镀相当，耐磨性比电镀提升 30%
  • 环保安全：真空镀膜无废水、无重金属污染，无六价铬、无镍致敏风险
  • JVAD 高效沉积：1µm/min，"无液滴"快速镀膜，对标电镀产能
  • HSS + H2 技术：高性能快速阴极 + H2 等离子增强，量产稳定性高

适用场景 ​

领域典型应用
卫浴五金水龙头、花洒、五金件
汽车内外饰件、车标、装饰条
3C 消费电子耳机壳、电子结构件
建材五金门锁、合页、拉手
机械结构件、功能件金属镀层

技术平台 ​

  • JVAD 快速镀膜：纳狮专利，1µm/min，"无液滴"
  • HSS 快速阴极：纳狮自研高性能阴极
  • H2 等离子增强：高离化率、高膜层结合力

相关链接 ​