配列
Pシリーズ DLC-PeCVD真空成膜装置
1420産業高度化における知的リーダーシップ製品とプロジェクトNanoShield Pシリーズ PVD真空蒸着装置は、CVC(連続可変陰極)およびUFC(超微細陰極)アーク陰極の主要技術を提供するNanoShieldのSPARKプラットフォーム上に設計されています。
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産業高度化における知的リーダーシップ製品とプロジェクトNanoShield Pシリーズ PVD真空蒸着装置は、CVC(連続可変陰極)およびUFC(超微細陰極)アーク陰極の主要技術を提供するNanoShieldのSPARKプラットフォーム上に設計されています。
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