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  • 磁控溅射-双磁控和中频磁控溅射

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    参考:高沉积速率和靶材利用率对于工业过程非常重要。尽管磁控管阴极的沉积速率相对较高,但不如蒸发过程的沉积速率高(在先前的博客中已解决)。双磁控管/脉冲磁控管配置既可实现高沉积速率,又可提高材料利用率[1,2,3]。双磁控溅射使用中频(〜40 kHz – 300 kHz)...

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