Магнетронное распыление - двойной магнетрон и магнетронное распыление промежуточной частоты

2019-02-13 3939

Высокие скорости осаждения и использование мишени важны для промышленных процессов. Хотя скорости осаждения на магнетронных катодах относительно высоки, они не так высоки, как в процессах испарения (рассматривались в предыдущих блогах). Конфигурации с двойным магнетроном/импульсным магнетроном позволяют достичь как высоких скоростей осаждения, так и более эффективного использования материала [1,2,3]. При двойном магнетронном напылении используются среднечастотные (~40 кГц - 300 кГц) импульсные электрические...

Посмотреть полный текст