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01 射出成形スクリューのクロムメッキとPVDチタンメッキ?2つのプロセスの違いは何ですか?

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射出成形スクリューに電気クロムメッキを使用するか、PVDチタンメッキを使用するかは、特定のアプリケーションシナリオ、性能要件、コスト考慮と環境要件に応じて検討する必要があります。現在、射出成形スクリューは主に電気めっきプロセスで使用され、PVD技術は主に高炭素繊維、ガラス繊維および他の高硬度耐摩耗性材料の射出成形に使用されます。

射出成形スクリュー用途におけるPVDチタンめっきの利点と欠点: #

  • ナシPVD真空コーティング装置、長さ1700mmまで。2mを超える大型ネジには適さない;
  • PVD蒸着温度は高く、射出スクリューは変形の危険性がある;PVDは通常300℃の高温で蒸着される;通常より高い安定性はより高いイオンエネルギー、より良い膜質と結合に対応する。合理的なワークハンガーと正確な温度制御は、最大に真直度を確保することができます;
  • PVDチタンめっきの価格はクロムめっきに比べて5-10倍高い。特に腐食性の高い環境では、PVD層がシルクレベルの厚さに達することが要求されるため、コストが大幅に上昇します。PVD窒化クロムプロセスによる1700本のインジェクションスクリューの価格は1000ドル以上です;
  • PVDは前処理に対する要求が非常に高く、基材の表面仕上げはRa<0.2である必要があり、ワークピースはバリがなく、油分がなく、酸化皮膜がないなどでなければならない。不適切な前処理工程はコーティングの脱落につながる。褪色処理は可能ですが、ワークの表面仕上げを維持するために研磨を増やす必要があります。
  • PVDコーティングは薄く、電気めっきのように基材の表面欠陥を修復することはできない;

一方、チタンめっきは、2000HV以上の高硬度表面、より緻密なコーティング構造、より多くのコーティング材料の選択肢、より高い耐熱性、より良い結合、より環境に優しいなどのプロセスの利点のために、今日では広く使用されています。特に、NANOXが開発した最新のハイパワーJVD技術は、高速かつ超厚いチタンめっきを達成することができ、コーティングのコストを大幅に削減し、同時に射出成形スクリューの寿命を向上させます。

射出成形用の代表的なコーティングの種類 #

保護層硬度:HV膜厚:μm抗酸化温度摩擦係数外観 色加工材料に適している
CrN1800-220010-207000.4そうはく透明な光学製品、各種類のレンズ、導光板などに適用する;一般的に使用される光学製品プラスチック:PMMA、PC、COC、COP、CR-39など。
CrAl+3000-35005-710000.5ダークグレーガラス繊維タイプ、70%以下のエンジニアリングプラスチック、炭素繊維タイプ、50%以下;
これらのプラスチックは、PA、PC、PBT、PPS、PAR、PEI、PEEKなどである。
DLC20001-33500.1射出成形; 耐腐食性、接着防止;

PVD真空コーティング装置 #

  • マグネトロンスパッタリング装置:より緻密なフィルム構造、より優れた抗接着効果;
  • アークイオンプレーティング: 高い析出温度、より硬いコーティング構造、高いボンディングと析出速度、大きな表面液滴;

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