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涂层关键技术

纳狮掌握真空镀膜技术及设备Know-How，拥有省级新材料研发实验室，可定制PECVD、PVD及ALD系统，布局燃料电池双极板、光伏异质...

纳狮新新材料实验室及设备团队
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异质结HJT电池转换效率达26.3%，具备转换效率高、提效空间大、发电能力强、工艺流程短等优势，工艺流程主要包括制绒清洗、非...

光伏硅异质结电池镀膜设备
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高阻隔膜真空镀膜设备用于延长包装材料寿命。本文梳理高阻隔材料在食品药品、电子器件、太阳能电池、OLED封装中的应用与阻隔...

高阻隔膜真空镀膜设备
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高可靠性高功率器件焊锡溅射（取代Au溅射）技术及设备，可实现材料成本减半。用于功率器件硅片欧姆接触层，1000个热循环后接...

替代Au焊锡溅射工艺及设备
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侧面氩离子体清洗系统确保涂层有效区域刻蚀均匀性为±10%，刻蚀速率250nm/h，有效祛除基体材料表面微氧化层，增强涂层与基材结合力。金属刻蚀可以增...

刻蚀模块
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可调式磁场设计，确保更高的靶材利用率。拥有更快的弧斑跑动速度，较小的弧光斑点，较高的离化率，较小的液滴。更利于低熔点靶材的离化，尤其适用于AlCrN基涂...

可调式阴极模块
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纳狮多年沉浸于研究PVD功能性硬质涂层技术，并根据客户工件的特性需求设计了多种预处理和后处理方法，大幅提升涂层的结合力，确保涂层质量的稳定性、...

整厂涂层工艺过程
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